Verdoppelung der Leistung: Ushio startet Massenproduktion von 1100-nm-LEDs und revolutioniert das SWIR-Spektrum

Ushio gibt den Start der Massenproduktion der Produktlinie „1100GD“ bekannt, einer bahnbrechenden 1100-nm-LED mit doppelter Lichtleistung im kurzwelligen Infrarotbereich (SWIR). Diese beginnt im Juni 2024.

Dieses innovative Produkt nutzt die Fortschritte der 2021 entwickelten und nun für die 1100-nm-LED optimierten, hocheffizienten „epitex GD“-Serie. Der Chip verwendet Materialien auf Basis von GaAs (Galliumarsenid) und bietet eine beispiellose Lichtleistung, die etwa doppelt so hoch ist wie die der bestehenden 1100-nm-Produkte der „D-Serie“. Im Dauerstrichbetrieb erreicht die neue LED eine erstklassige* Lichtleistung von 590 mW bei 1 A Ansteuerstrom und 880 mW bei 2 A Ansteuerstrom im Pulsbetrieb. Die höhere Lichtleistung führt zudem zu einer 1,8-fachen Verbesserung der Energieeffizienz (W

Steckernetzteil-Effizienz). Dies verspricht eine geringere Wärmeentwicklung im Betrieb und minimale Veränderungen der Leistungsmerkmale wie Lichtleistung und Wellenlängenverschiebung. Die „1100GD“ zeichnet sich außerdem durch geringere Schwankungen der Lichtleistung bei Temperaturschwankungen aus und ermöglicht so eine einfachere Wärmeableitung im Vergleich zu ihren Vorgängern der „D-Serie“.

*Laut Ushios Forschung

■Hauptanwendungen

Die Serie „1100GD“ ist auf eine Vielzahl von Hightech-Anwendungen zugeschnitten, darunter:

• Fehlerprüfung von Silizium-Wafern
• Sonnensimulation
• Fehlerprüfung in Solarzellen
• Fremdkörperprüfung
• Biosensorik
• Sortierung von Lebensmitteln und anderen Materialien
• Hochtemperatur-Glasdefektprüfung
• Maschinelle Bildverarbeitung
• Füllstandsprüfung von Flüssigkeiten
• Feuchtigkeitserkennung
• Kunststoffsortierung für Recyclingzwecke
  
  

Siliziumwafer werden für Wellenlängen nahe und über 1000 nm zunehmend transparent, wobei der größte Teil des Lichts bei Wellenlängen über 1100 nm durchdringt. Infrarot-LEDs weisen bei längeren Wellenlängen typischerweise eine reduzierte Lichtleistung auf. Das Produkt „1100GD“ eignet sich dank seiner verbesserten Lichtleistung hervorragend zur Erkennung innerer Defekte in Wafern und nutzt die höheren Transmissionsraten.

In der Biosensorik dringt die Wellenlänge von 1100 nm tiefer in biologisches Gewebe ein und eignet sich daher ideal für die Bildgebung und Messung von innerem und tiefem Gewebe. Diese Eigenschaft ist entscheidend für die präzisere Beurteilung feiner Strukturen und pathologischer Veränderungen in biologischem Gewebe (siehe Abbildung 1). Darüber hinaus ist die Empfindlichkeit hochauflösender CMOS-Bildsensoren im Wellenlängenbereich von 1100 nm für Beobachtungen und Analysen in der modernen Biosensorforschung und medizinischen Diagnostik von Vorteil und kann die Präzision nichtinvasiver Diagnoseverfahren verbessern.

■Produktpalette

Die Epitex 1100GD-Serie von Ushio umfasst Hochleistungschips, die in verschiedene Gehäuse wie EDC, SMBB, EDCC und mehr integriert werden können. Detaillierte Informationen zur Produkthandhabung finden Sie in unseren Informationen zum technischen Support.

Die Pläne zur Massenproduktion von Standard-Leistungschips für SMT- oder Molded-Type-Gehäuse sind noch nicht abgeschlossen. Anfragen an Interessierte sind jedoch willkommen.

■Datenblätter

Umfassende Spezifikationen und Produktdetails finden Sie unter