Excimer 172 nm Technologie

In industriellen Anwendungen liegt die am häufigsten verwendete Excimer-Wellenlänge bei 172 nm. Ihre Energie von 7,23 eV reicht aus, um alle wichtigen Bindungen organischer Moleküle direkt aufzubrechen, mit Ausnahme der Bindungen zwischen Kohlenstoff und Sauerstoff (C=O) und einigen anorganischen Oxiden. Die Excimer-Technologie eignet sich daher hervorragend für Produktionsprozesse, bei denen Oberflächen(vor)behandlungen von großer Bedeutung sind. Unsere Lampen und Module werden insbesondere zur Oberflächenreinigung, Oberflächenaktivierung und als Vorstufe für verschiedene Bindungsprozesse eingesetzt und können auf einer Vielzahl von Materialien wie Kunststoffen, Glas oder Metallen angewendet werden.

Im Gegensatz zu anderen Technologien ist die Excimer-Bestrahlung besonders sauber, gleichmäßig und schonend und eignet sich daher besonders für empfindliche Oberflächen wie dünne Filme und Bahnen.

Ushio bietet zwei Excimer-Produktserien an: die Hyper V-Serie, die speziell für Inline-Behandlungen entwickelt wurde, und die SUE-Serie, die für die stationäre Bestrahlung konzipiert wurde.

Mit dem Modul ExciJet172 55-130 bietet Ushio ein sehr kleines Excimer-Modul für Testzwecke in Laboranlagen an. Es ermöglicht Kunden die Behandlung von Substraten unter realen Bedingungen entweder im eigenen Excimer-Anwendungslabor oder vor Ort. Die geringen Abmessungen des Moduls ermöglichen eine einfache und flexible Installation in Testaufbauten oder Pilotanlagen.