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Ushio gibt den Start der Massenproduktion der Produktlinie „1100GD“ bekannt, einer bahnbrechenden 1100-nm-LED mit doppelter Lichtleistung im kurzwelligen Infrarotbereich (SWIR). Diese beginnt im Juni 2024.
Dieses innovative Produkt nutzt die Fortschritte der 2021 entwickelten und nun für die 1100-nm-LED optimierten, hocheffizienten „epitex GD“-Serie. Der Chip verwendet Materialien auf Basis von GaAs (Galliumarsenid) und bietet eine beispiellose Lichtleistung, die etwa doppelt so hoch ist wie die der bestehenden 1100-nm-Produkte der „D-Serie“. Im Dauerstrichbetrieb erreicht die neue LED eine er...
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